四フッ化炭素（CF4）高純度ガス

1. 半導体製造: CF4 は、エレクトロニクス産業でプラズマ エッチングや化学蒸着 (CVD) プロセスに広く使用されています。シリコンウェーハや半導体デバイスに使用されるその他の材料の精密エッチングに役立ちます。その化学的不活性性は、これらのプロセス中の望ましくない反応を防ぐ上で非常に重要です。

2. 誘電体ガス: CF4 は、高電圧電気機器やガス絶縁開閉装置 (GIS) の誘電体ガスとして使用されます。高い絶縁耐力と優れた電気絶縁特性により、これらの用途での使用に適しています。

3. 冷凍: CF4 は一部の低温用途で冷媒として使用されていますが、その高い地球温暖化係数に対する環境上の懸念により、その使用は減少しています。

4. トレーサー ガス: リーク検出プロセス、特に高真空システムや産業機器のリークを特定するためのトレーサー ガスとして使用できます。

5. 校正ガス: CF4 は、その既知の安定した特性により、ガス分析装置およびガス検出器の校正ガスとして使用されます。

6. 研究開発：材料科学、化学、物理実験など、さまざまな目的の研究室の研究開発に使用されます。

この素材/製品の使用に関する特定の用途および規制は、国、業界、目的によって異なる場合があることに注意してください。この素材/製品を用途に使用する前に、常に安全ガイドラインに従い、専門家に相談してください。